稀土Ce2O3掺杂TiO2薄膜的结构和光学特性
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篇1：稀土Ce2O3掺杂TiO2薄膜的结构和光学特性
稀土Ce2O3掺杂TiO2薄膜的结构和光学特性
采用真空热蒸发法在玻璃、单晶硅衬底上制备Ce2O3掺杂TiO2薄膜,研究热处理和Ce2O3掺杂对薄膜性能的影响.结果显示,热处理可明显改善薄膜的结构和光学性能,Ce2O3掺杂可降低薄膜晶型转化温度.TiO2薄膜(玻璃衬底)经600℃热处理由锐钛矿转为金红石结构;当掺Ce2O3含量为5at%时热处理温度为500℃薄膜就已开始发生晶型转变.薄膜表面颗粒较均匀,存在程度不同的`孔洞和颗粒聚集现象;掺Ce2O3后薄膜表面致密度明显增强.薄膜(玻璃衬底)的光学带隙从3.74 eV降至3.60 eV.
作 者：汪良 李健 高燕 WANG Liang LI Jian GAO Yan 作者单位：内蒙古大学理工学院物理系,内蒙古,呼和浩特,010021 刊 名：真空 ISTIC PKU英文刊名：VACUUM 年，卷(期)： 44(6) 分类号：O484 关键词：真空热蒸发 TiO2薄膜 Ce2O3掺杂 结构和光学特性篇2：氟掺杂的氧化锌薄膜的结构和光学特性
氟掺杂的氧化锌薄膜的结构和光学特性
通过热氧化氟化锌(ZnF2)薄膜的方法制备出氟掺杂的多晶ZnO薄膜,ZnF2薄膜是利用电子束蒸发方法沉积在Si(100)衬底得到的.利用X射线衍射和X射线电子能谱研究了ZnF2薄膜向ZnO的'转变过程.实验结果表明,在400℃退火30 min的条件下能够获得六方纤锌矿结构的ZnO:F薄膜.对ZnO:F薄膜的室温光致发光谱可以观察到位于379 am、半峰全宽为73 meV的紫外发射峰,而相应于缺陷的深能级发射则完全猝灭.表明ZnO中残留的F能够有效地增强激子的发光,同时使缺陷发光强度明显降低.对F掺杂对ZnO的发光性能的影响进行了讨论.
作 者：马剑钢 刘益春 徐海阳 骆英民 张吉英 吕有明 申德振 范希武 作者单位：马剑钢,张吉英,吕有明,申德振,范希武(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033)刘益春(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033;东北师范大学,先进光电子功能材料研究中心,吉林,长春,130024)
徐海阳,骆英民(东北师范大学,先进光电子功能材料研究中心,吉林,长春,130024)
刊 名：发光学报 ISTIC PKU英文刊名：CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年，卷(期)： 25(5) 分类号：O472.3 O482.31 关键词：ZnO:F X射线衍射 X射线光电子能谱 光致发光篇3：TiO2薄膜的溶胶-凝胶法制备及其光学特性
TiO2薄膜的溶胶-凝胶法制备及其光学特性
采用溶胶-凝胶法在普通载玻片上制备了均匀透明的'纳米TiO2薄膜,X射线衍射结果表明薄膜晶粒大小为23.0nm,呈锐钛矿型.通过测量薄膜的紫外可见光透射率和吸光度光谱,对其光学特性和吸收边缘进行了研究,同时计算了薄膜的光学禁带宽度.实验结果表明:随薄膜层数的减少,光吸收带边缘发生了蓝移,光学禁带宽度随之变大,此现象可用量子尺寸效应来解释.
作 者：肖循 唐超群 作者单位：肖循(华中科技大学,物理系,湖北,武汉,430074;荆州师范学院,物理系,湖北,荆州,434100)唐超群(华中科技大学,物理系,湖北,武汉,430074)
刊 名：功能材料 ISTIC EI PKU英文刊名：JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS 年，卷(期)： 34(4) 分类号：O484.4 关键词：纳米TiO2 溶胶-凝胶工艺 量子尺寸效应 紫外-可见光谱篇4：Cu掺杂TiO2薄膜的超亲水性与电化学特性研究
Cu掺杂TiO2薄膜的超亲水性与电化学特性研究
通过溶胶-凝胶方法分别在ITO和玻璃表面制备了TiO2:Cu薄膜,研究了TiO2:Cu薄膜在365nm的紫外光照射下的光致超亲水性及在Na2SO4电解溶液中的循环伏安行为,研究了掺杂浓度对薄膜的光致超亲水性的影响.结果表明,在紫外光的照射下,TiO2:Cu薄膜电极表现光电化学过程及光致超亲水性,原因在于在紫外光照射下TiO2:Cu薄膜的超亲水性变化与产生TiO3+的`过程引起的表面微观结构变化存在一定的内在联系.与纯TiO2薄膜相比,掺入适量Cu(Cu/Ti摩尔比:0.002)后的薄膜具有更好的光致超亲水性和较强的峰电流.经1h的紫外光照射后,该薄膜的水接触角接近于O°,峰电流达1.754μA.
作 者：杨修文 江锐 石义杰 YANG Xiu-wen JIANG Rui SHI Yi-jie 作者单位：郧阳师范高等专科学校,物理系,湖北丹江口市,442700 刊 名：光电子技术 ISTIC PKU英文刊名：OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY 年，卷(期)： 28(2) 分类号：O484 关键词：TiO2薄膜 紫外光 循环伏交 光电化学 亲水性 掺杂篇5：掺杂纳米硅薄膜的生长特性
掺杂纳米硅薄膜的生长特性
采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功的沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅薄膜.探讨了各种生长工艺条件对掺杂纳米硅薄膜的.结构与性能的影响及其规律.利用高分辨电镜(HREM)、Raman散射等手段对掺入不同杂质后的纳米硅薄膜的微结构进行初步研究,并从实验和理论上对掺杂纳米硅薄膜的生长特性进行了探讨.得出掺杂纳米硅薄膜具有与掺杂非晶硅薄膜和掺杂微晶硅薄膜不同的生长特性,即杂质原子绝大部分是非活性的,只有很少一部分在薄膜中起施主作用.大部分非活性的杂质原子存在于晶粒间界.
作 者：王金良 徐刚毅 王天民 作者单位：北京航空航天大学,理学院,北京,100083 刊 名：北京航空航天大学学报 ISTIC EI PKU英文刊名：JOURNAL OF BEIJING UNIVERSITY OF AERONAUTICS AND ASTRONAUTICS 年，卷(期)：2002 28(2) 分类号：O484.1 关键词：硅膜 混合物 生长特性【稀土Ce2O3掺杂TiO2薄膜的结构和光学特性】相关文章：
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